現(xiàn)在的實驗（experiment)室凈化大都是由靜壓層、工藝層、工藝輔助層和回風通道這幾個部分構成，實驗室凈化大都是通過FFU來處理空氣。具體的方法是由FFU提供循環(huán)（continue)空氣的動力，將新風、循環(huán)風混合后通過超高效過濾器(作用:過濾雜質等)送入工藝層和工藝輔助層，實驗室凈化的靜壓層相對于工藝層為負壓。那么你知道FFU相對于實驗室凈化有哪些優(yōu)點嗎？它又分為哪幾種類型？下面為大家一一解答。
實驗（experiment)室凈化中FFU集成電路設計優(yōu)點：潔凈室面積可擴大、潔凈等級高、溫濕度控制（control)精度（精確度）高等多數(shù)潔凈室要求環(huán)境潔凈度、溫濕度、振動、ESD、AMC控制等。潔凈實驗室包括技術和設備的更新，研究人員增加和現(xiàn)有研究員的能力提高等。實驗室建設原則是滿足實驗室工作業(yè)務流程的優(yōu)化及日常管理等方面的需要。設計主要考慮實驗室的工藝流程、特殊實驗室和功能間的位置選擇、建筑物內上層和下層的具體環(huán)境、建筑結構等因素。FFU集成電路系統(tǒng)剛好可以最大化滿足這些要求。
實驗（experiment)室凈化按照回風特點分為三個系統(tǒng)：
1.FFU循環(huán)（continue)系統(tǒng);
2.循環(huán)空調機配合高效送風口系統(tǒng);
3.循環(huán)（continue)風機配合濕式密封系統(tǒng)和。
FFU集成電路系統(tǒng)的三種類型
1.最適合半導體(semiconductor)制造業(yè)的FFU循環(huán)（continue)系統(tǒng)
FFU循環(huán)（continue)系統(tǒng)不僅節(jié)省(spare)運行空間、潔凈度安全性(security)高、運行成本低，而且有很高的操作靈活性，在不影響生產(Produce)的情況下可以隨時進行系統(tǒng)升級和調整，這些都能很好地滿足半導體(semiconductor)制造企業(yè)的需求。
2.最適合小規(guī)模潔凈室的FFU循環(huán)（continue)系統(tǒng)
在小規(guī)模低等級要求的實驗室凈化設計中被廣泛(extensive)應用，對于大面積高等級的實驗室凈化則存在運行成本過高、占用空間過大等缺點。
3.全能型FFU循環(huán)（continue)系統(tǒng)
這種形式的設計可以滿足集成電路制造潔凈室大面積高等級的要求，但這項潔凈工程系統(tǒng)的運行成本較高，并且潔凈室風速、風量調節(jié)困難（difficult)，系統(tǒng)升級改造困難，因此操作靈活性很低。核酸實驗室根據(jù)科研、生產、生活、消防等方面用水對水質、水溫、水壓和水量的要求，結合室外給水系統(tǒng)等因素，從技術經(jīng)濟指標上比較后確定。用水定額、水壓、水質、水溫及用水條件，應按工藝要求確定。水管由土建方通過預埋管鋪設在地板下面，引到中央臺指定位置；對于邊臺，水管由土建方埋設在墻里引到指定位置。其余工作由實驗室建設單位完成。疾控實驗室正確的實驗室供排氣的解決方案是把實驗室的供排氣看作一個系統(tǒng)。這個系統(tǒng)要考慮到安全性、便利性、日常實驗室的管理、氣瓶的更換等問題，同時要重點考慮實驗室今后的發(fā)展，對于特殊氣體還要考慮特殊的技術解決方案。
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